光学
CVD 金刚石基板
尽享钻石独特性能带来的优势——极宽的透射范围、非凡的硬度、导热率、优异的抗热冲击和抗热透镜效应能力，以及独特的电子特性。
高意 化学气相沉积（CVD）技术，大规模生长单晶和多晶金刚石，能够稳定地生产出具有低散射、极低吸收和低双折射率的材料，且横截面尺寸和厚度范围广泛。应用领域包括光学元件、热管理、电子产品和量子传感器。
化学气相沉积法合成金刚石的特性
高意 化学气相沉积（CVD）金刚石材料最大尺寸可达直径145毫米、厚度2毫米，其导热率 可超过2200 W/m·K。
等离子体化学气相沉积金刚石材料的性能 |
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物理性质 |
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结构 |
多晶或单晶 |
晶粒尺寸（多晶） |
取决于厚度和工艺（0.05–1 毫米） |
等级（多晶） |
光学、热成像、微波、探测器、机械、定制 |
等级（单晶） |
光学、热学、微波、电子、量子、定制 |
厚度* |
最大 2 毫米 |
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