光学元件
镀膜
高意 垂直整合高意 镀膜光学元件的性能，而无需将未镀膜的光学元件与镀膜分开考虑。
您希望获得卓越的性能，同时在使用寿命、损伤阈值或预算方面毫不妥协。没有任何一种单一的镀膜工艺能够为所有类型的镀膜光学元件提供这种综合优势。因此，我们的镀膜设备配备了全面的技术体系。
核心能力
离子束溅射（IBS） 该方法可形成硬度更高、密度更大的镀膜，且具有非常精确的光谱特性。它最适用于小型光学元件。 |
磁控溅射 该方法能形成更致密的层，但比IBS更快，因此我们将其用于大型光学元件。不过，该方法会使光学元件升温，因此并非适用于所有应用场景。 |
蒸发（“Evap”）涂层 这仍然是一种经济且高效的工作方法，与大多数材料兼容。不过，其涂层的耐用性不如溅射工艺。 |
 离子辅助沉积（IAD） 带电离子会对沉积的原子产生冲击力，从而形成更致密的涂层。但这种方法最适合用于较小的光学元件。 |
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