离子注入

离子注入代工服务

请高意 ,满足您在离子注入方面的各项需求。无论生产规模大小或应用领域如何,我们都能提供可靠的支持,并助您从容应对需求高峰。

高意 一流的离子注入代工厂高意 满足各类注入需求:从300毫米晶圆的生产量,到较小尺寸晶圆和芯片的研发,以及在化合物半导体衬底上的加热注入。

核心能力

无与伦比的体验

凭借其在业内经验丰富的应用团队高意 提供最快捷、最具成本效益的离子注入高意 ,以助力客户取得成功:

  • 硅及化合物半导体衬底
  • 加热型和常温型植入物
  • 研究与开发
  • 植入物的建模与工艺调整
  • 小型晶圆尺寸

值得信赖的合作伙伴

选择高意 您的种植体合作伙伴,您将能够:

  • 从扩张或变化的市场中获益
  • 在发生意外系统故障后恢复离子注入
  • 将离子注入过程中的部分或全部工序外包
  • 48小时内获得支持

丰富的资料

  • GaAs/InP
  • 碳化硅
  • GaN
  • Diamant
  • LiNbO₃/LiTaO₃
  • 砷化铟
  • ZnSe
  • SiO₂/Si

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您还将了解VCSEL与EEL之间的区别,以及为何二者对于最先进的应用都不可或缺。凭借数十年的专业经验和全球代工高意 从仿真到大规模晶圆加工的高意 离子注入服务,助力您更快地开发出更智能的创新产品。

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