脉冲激光沉积 (PLD)）
请使用本公司独有的高功率准分子激光器，脉冲激光沉积 (PLD)技术快速制备各种类型的薄膜。
- 化学计量比薄膜 使用我司稳定的准分子激光器，可在全面控制层厚的同时，获得化学计量比薄膜。
- 更快的成膜速度本公司准分子激光器的高脉冲能量可更快地制备大面积薄膜。
- 3相位脉冲激光沉积（脉冲激光沉积 (PLD)）凭借我司激光设备久经考验的运行率和可靠性，可实现全年365天、每天24小时不间断生产。
多用途成膜
有机EL显示屏、MEMS、半导体、太阳能发电、医疗传感器、手机、先进电池等依赖薄膜的技术和产业正在不断增加。脉冲激光沉积 (PLD)）适用于类金刚石碳（DLC）、钙钛矿、压电体、高温超导体（HTS）等多种材料，是常被选用的制造方法。在所有这些应用中，我们的准分子激光器均可实现高速、精确的深度控制以及高精度的化学计量比脉冲激光沉积（脉冲激光沉积 (PLD)）。
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产品的用途
脉冲激光沉积（脉冲激光沉积 (PLD)）产品
视频聚焦：
恩斯赫德，Solmates公司用于薄膜设备的超高功率准分子激光器
位于荷兰恩斯赫德的Solmates公司ArjenJanssens先生及其团队正在利用高功率LEAP系列准分子激光器，开发一种创新的脉冲激光沉积设备，该设备将在未来芯片设计开发及新型薄膜材料的集成中发挥关键作用。请了解激光技术在薄膜行业中的详细应用。
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