材料
III-V族射频外延晶圆
通过采用我们稳定可靠的高性能III-V族外延晶圆，提升电子高速元件制造的效率、产能与可靠性。
Coherent verfügt über umfangreiche Kapazitäten für die Entwicklung, das Design und die Herstellung von fortschrittlichen III-VI-Halbleiter-Epitaxiewafern. Wir ermöglichen Ihnen die einfache Integration von Technologien der nächsten Generation in Ihre Anwendung und unterstützen Sie bei der Serienproduktion.
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Coherent ist weltweit eines der wenigen Unternehmen mit vollständiger, vertikal integrierter SiC-Fertigungskapazität. Wir produzieren von SiC-Wafern und ihrer Epitaxie bis hin zu Elementen und Modulen des Leistungsbaus in eigener Regie. Darüber hinaus macht die unübertroffene Qualität, in der wir SiC-Material herstellen, Coherent praktisch zum einzigen Anbieter, der in der Lage ist, erfolgreich vom aktuellen Standarddurchmesser für Wafer von 150 mm auf 200 mm umzustellen.
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