离子注入

离子注入制造服务

依托我们全方位的服务合作伙伴关系,满足您的离子注入需求。无论生产规模大小、应用领域如何,我们都能提供可靠的支持,并具备应对高峰期需求的应对能力。

从300毫米晶圆的量产到更小尺寸晶圆和芯片的研发,高意 离子注入制造工厂能够满足各种形式的注入需求,并且能够在化合物半导体衬底上进行加热注入。

关键能力

卓越的体验

高意 业内经验丰富的离子注入应用高意 快速且经济高效的方法,从而帮助客户在以下方面取得成功:

  • 硅及化合物半导体衬底
  • 加热和室温注入
  • 研发
  • 注入建模与工艺匹配
  • 小晶圆尺寸

值得信赖的合作伙伴

选择高意 注塑合作伙伴,可带来以下优势:

  • 利用不断扩大或变化的市场
  • 从意外的离子注入系统故障中恢复
  • 将离子注入工艺的全部或部分步骤进行外包
  • 支持 48 小时周转时间

综合材料

  • 砷化镓/磷化铟
  • 碳化硅
  • 氮化镓
  • 金刚石
  • 锂铌酸盐/锂钽酸盐
  • 锑化铟
  • 硒化锌
  • 二氧化硅/硅

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精选视频

通过离子注入推动光子学的未来

从智能手机的人脸识别到人工智能驱动的数据中心中的高速数据传输,当今互联的世界无不依赖于高精度激光器。这些先进的光子器件是现代传感和通信的基础。

本视频重点介绍了离子注入如何提升激光器性能,从而实现紧凑的聚焦光束、提高热稳定性以及实现先进的多结设计。它在隔离激光器通道、减少串扰以及提高速度和可靠性方面发挥着至关重要的作用。

您还将了解VCSEL与EEL有何不同,以及为何二者对尖端应用至关重要。高意 专业经验和全球晶圆代工模式,提供从仿真到大批量晶圆加工的端到端离子注入服务,助您更快、更智能地实现创新。

▶️立即观看离子注入如何塑造光子学的未来,以及Coherent 高意如何助力您的设计。

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半导体器件的离子注入

离子注入是一种将离子加速至高速并注入半导体材料的技术。该工艺能够精确控制载流子浓度和分布,从而能够高精度地定制材料的电学特性。高意 全球最大的离子注入晶圆代工厂,提供各种服务以满足客户的需求。