光学系
涂层
借助Coherent的垂直整合，您无需分别指定未镀膜的光学元件和镀膜工艺，而是可以直接指定镀膜光学元件的性能。
您无需在寿命、损伤阈值或预算上做出妥协，即可获得卓越的性能。仅靠单一的镀膜工艺，无法在所有类型的镀膜光学元件上实现这一组合。正因如此，我们的镀膜设施才具备全面的技术能力。
主要功能
离子束溅射（IBS） 通过这种方法，可以获得具有极高光谱质量、更坚固且更高密度的镀膜。非常适合小型光学元件。 |
磁控溅射 虽然这种方法能制备出更高密度的薄膜，但由于其速度比IBS更快，因此常用于大型光学元件。不过，由于该过程会使光学元件升温，因此并非适用于所有场合。 |
蒸镀（"Evap"）涂层 这是一种经济且快捷的方法，适用于绝大多数材料，至今仍是主流工艺。不过，其形成的涂层强度不如溅射法。 |
 离子辅助蒸镀（IAD） 为了对蒸发出的原子施加冲击力，会使用带电离子，从而获得更高密度的镀层。不过，该方法最适合用于小型光学元件。 |
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