光学系
锗 (Ge)
利用锗材料高折射率与优异硬度的独特结合,仅使用最少的组件即可构建出耐用的低功率成像和激光系统。
ゲルマニウム (Ge) は、堅牢性と耐久性が重要な用途に最適であり、Ge光学素子は50~100ワットの範囲の光出力に耐えることができます。 屈折率が高いため、追加のコーティングなしでビームスプリッターとして使用できます。
ゲルマニウム (Ge) の特性
Coherentは、最大直径150 mmのGe基板を供給しており、熱暴走や破壊が発生しないように、10.6 μmの吸収率を注意深く監視しています。
Geの材料特性 |
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物理的特性 |
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ヤング率 |
100 GPa(12.04 × 10⁶ psi) |
破壊弾性率 |
93 MPa (20,000 psi) |
努普硬度 |
692 千克/平方毫米 |
密度 |
5.32 克/立方厘米 |
泊松比 |
0.27 |
熱特性 |
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熱伝導率@ 20°C |
0.59 W/cm/°C |
比熱 |
0.31 J/g/°C |
線膨張係数@ 20°C |
5.7 × 10⁻⁶/°C |
光学的特性 |
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体積吸収@ 10.6 μm |
< 0.03 cm-1 |
屈折率の温度変化@ 10.6 µm |
408 × 10⁻⁶/°C |
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