光学系

锗 (Ge)

利用锗材料高折射率与优异硬度的独特结合,仅使用最少的组件即可构建出耐用的低功率成像和激光系统。

ゲルマニウム (Ge) は、堅牢性と耐久性が重要な用途に最適であり、Ge光学素子は50~100ワットの範囲の光出力に耐えることができます。 屈折率が高いため、追加のコーティングなしでビームスプリッターとして使用できます。

ゲルマニウム (Ge) の特性

Coherentは、最大直径150 mmのGe基板を供給しており、熱暴走や破壊が発生しないように、10.6 μmの吸収率を注意深く監視しています。

Geの材料特性

物理的特性

ヤング率

100 GPa(12.04 × 10⁶ psi)

破壊弾性率

93 MPa (20,000 psi)

努普硬度

692 千克/平方毫米

密度

5.32 克/立方厘米

泊松比

0.27

熱特性

熱伝導率@ 20°C

0.59 W/cm/°C

比熱

0.31 J/g/°C

線膨張係数@ 20°C

5.7 × 10⁻⁶/°C

光学的特性

体積吸収@ 10.6 μm

< 0.03 cm-1

屈折率の温度変化@ 10.6 µm

408 × 10⁻⁶/°C