材料

反应结合碳化硅

我们可根据需求定制几乎任何尺寸或形状的RB-SiC部件,包括高平整度、深渗透深度以及内部冷却通道等特性。

RB-SiC 专为高压电子设备、半导体工具等应用领域设计,其物理特性具有独特的组合,包括高耐热性、低热膨胀系数、化学惰性、高强度以及优异的强度重量比。

反应结合碳化硅特性

从多种针对不同机械、热学和电学特性进行优化的RB-SiC基板材料中进行选择。

属性

SSC-702

SSC-802

SSC-902

SSC-HTC

SSC-FG

(细粒 SiSiC)

HSC-702

(硅/碳化硅+铝)

TSC-15

(硅/碳化硅 + 钛)

RBBC-751

(B4C/SiC/Si)

西卡姆700

SiCAM 800

碳化硅含量(体积百分比)

70

80

90

78

70

70

80

70B4C

10SiC

70

80

硅含量(体积百分比)

30

20

10

22

30

30

20

20

30

20

堆积密度(g/cm³)

2.95

3.00

3.12

3.02

2.94

3.01

3.13

2.56

2.95

3.00

英律(GPa) [E]

350

380

410

373

330

330

390

400

345

365

泊松比

0.18

0.18

0.18

0.2

0.18

0.19

0.19

0.18

0.185

0.185

弯曲强度(MPa)

270

280

280

265

350

275

225

280

280

290

破坏强度(MPa-m¹/²

4

4

4

3.5

4

5

5

5

3.2

3.2

CTE(25~100°C)(ppm/K)

2.9

2.9

2.7

2.9

3

4.4

3

4.8

3.2

3.1

导热系数 (W/mK)

170

180

190

255

150

200

210

52

177

185

热值(J/kg·K)

680

670

660

670

680

700

670

890

686

674

非线性系数 (E/ρ)

119

127

131

-

112

109

125

156

117

122

温度稳定性(k/α)

59

62

70

-

50

45

70

11

55

60