光学
镀膜
得益于Coherent的垂直整合，我们可以指定未镀膜光学元件以及已镀膜（而非单独镀膜）光学元件的性能。
如果您追求卓越的性能，且不希望在寿命、损伤阈值或预算方面做出妥协，那么仅靠单一镀膜工艺是无法为各类镀膜光学器件带来这些优势的。正因如此，我们的镀膜设施具备全面的技术能力。
主要功能
离子束溅射（IBS） 该方法凭借其极高的光谱精度，可形成更坚固、密度更高的镀膜。最适用于小型光学设备。 |
磁控溅射 虽然它能生成高密度光斑，但速度比IBS更快，因此被用于大型光学设备。然而，由于它会使光学设备升温，因此无法应用于所有领域。 |
蒸发镀膜 虽然这是一种经济且快速的方法，且与大多数材料兼容，但其涂层的硬度不如溅射法。 |
 采用离子辅助沉积法（IAD）的蒸发 带电离子用于对沉积的原子施加冲击力，从而形成密度更高的涂层。不过，它最适合用于小型光学器件。 |
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