通用光学元件

微透镜阵列

利用我们的单维或二维微透镜阵列(MLA),构建高度紧凑的准直和聚焦系统。

在高意 单高意 以正方形或六边形的周期性图案高意 ,透镜间距为几百微米。它们可以通过纳米压印、光刻和玻璃成型工艺制备。

微透镜阵列的功能

高意 具有多种结构且采用不同材料的微透镜阵列(MLA)。近红外微透镜阵列的大规模生产可在6英寸硅晶圆上进行。 

硅微透镜阵列的技术规格 

材料规格

材料

反射率

≈ 3,42

透明度

R < 0,2 % T >99 % bei 1.260 – 1.340 nm

生产规范

直径

600 ± 5 微米

迪克

400 ± 10 微米

简介

750 ± 1 微米

透明孔

>510 纳米

曲率半径

3.0 毫米

科尼施

0

表面粗糙度

<5 nm RMS

透镜表面轮廓的偏差

<35 nm RMS

表面质量

铣孔:5/1×0.025,依据 ISO 10110-7

切削加工

< 100 μm

边缘垂直度

90 ± 2°